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会社の歩み

1935年6月 創立。
当社は、熱交換機(ヒーター)、送排風機(ファン)の専門メーカとして、現在の大阪市平野区に合資会社を創立(資本金5,000円)
1939年3月 応用機器の販売。
「熱と風」の理論と研究から応用技術を生かした熱風乾燥機、輸送機器、科学機器等の設計、製造、販売を行う
1947年4月 染色仕上関係機械に重点を置いた各種乾燥機を開発する
1957年3月 資本金300万円となり株式会社組織とする
1961年10月 資本金3,600万円となる
1962年4月 資本金1億円となり大阪証券取引市場第二部上場
1964年4月 輸出貢献企業に成長 輸出貢献企業として通産省より表彰される
1970年6月 創立35周年、社旗完成
1971年12月 資本金5億6千万円となる
1973年6月 ヒラノテクニカム」を設置
1979年3月 本社工場増築
1981年7月 省エネを探究し新機種(シンプレックステンター)完成。下記表彰等受ける
優秀省エネルギー機器表彰受賞(財団法人日本機械工業連合会)
省エネルギー税制優遇措置適用機種(通産省告示第201号)
1985年6月 創立50周年を迎え社史発刊
1988年4月 資本金10億5千3百万円となる
1989年1月 株式会社ヒラノテクシードに社名変更
1990年2月 スイスフラン建転換社債を発行
1990年3月 新鋭「ヒラノテクニカム(商品開発センター)」竣工
1991年3月 資本金18億4千7百万円となる
1998年4月 ISO9001 認証取得
1998年11月 ドイツ・スティアーグ社より液晶レジスト塗布用CAPコータの技術を導入
1999年2月 「CAP Coater」の大型試作機をヒラノテクニカム内に設置
2000年1月 「CAP Coater」をフォト用レジスト塗布装置として製品化
2000年6月 連続シートへの塗布を可能とした「連続式 Capillary Coater」を開発
2001年3月 研究開発用小型「Capillary Coater」を開発
2001年11月 中厚セラミックシート成形テスト機「M-600SF」を「ヒラノテクニカム」に設置
2001年12月 第5世代LCD用「新型 Capillary Coater」を開発
2002年3月 有機EL発光層成膜プロセスを開発
2002年12月 耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発
2008年5月 レーザー加工機を更新
2010年1月 リチウムイオン電池用テストコーター「R800-DB」、蓄熱式脱臭装置をテクニカムに設置
2010年10月 平面研削盤を増設
2012年8月 本社工場の敷地を拡大
2013年1月 新塗装工場竣工
2013年7月 大阪証券取引所市場第二部が東京証券取引所第二部に統合
2014年3月 ヒラノ光音株式会社(現連結子会社)の本社及び工場を当社敷地内に新築移転
会社の歩み|株式会社ヒラノテクシード