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2013年

2013年12月 テスト機 機能追加:M-200DL
2層ダイヘッド設置
2013年12月 テスト機 改善・改良:M-200DI
M-200DIをクリーンルームへ設置
2013年4月 テスト機 機能追加:M-600SF
厚膜セラミック用密閉箱型液槽の開発
2013年2月 テスト機 改善・改良:P-FF機
高性能サクションロール設置
2013年1月 コンバーテック ジャパン 2013 出展

2012年

2012年10月 テスト機 改善・改良:M-600SF
IR乾燥機への改造
2012年4月 テスト機 改善・改良:M-200L
増速対応(40m/min → 100m/min)
2012年3月 テスト機 改善・改良:R-800DB
パンチング、ロール付きノズル追加

2011年

2011年10月 テスト機 機能追加:R-800DB
X線膜厚測定システムの導入
2011年10月 接触式卓上厚み計の導入
電池電極の連続膜厚測定が可能
2011年4月 平成23年度戦略的基盤技術高度化支援事業「薄膜白色光源用電界発光型インクの開発」に採択

2010年

2010年8月 平成22年度戦略的基盤技術高度化支援事業「薄膜白色光源用電界発光型インクの開発」に採択

2009年

2009年12月 高精度のリチウムイオン電池電極塗工装置「R-800DB」をテクニカムに設置、テスト開始
2009年12月 テクニカムのVOC対策として、蓄熱燃焼式脱臭装置を導入
2009年10月 平成21年度補正予算 戦略的基盤技術高度化支援事業「薄膜白色光源用電界発光型インクの開発」に採択
2009年4月 平成21年度戦略的基盤技術高度化支援事業「顔料分散型薄膜太陽電池の高性能化と量産技術開発」に採択

2008年

2008年9月 平成20年度戦略的基盤技術高度化支援事業「顔料分散型薄膜太陽電池の高性能化と量産技術開発」に採択

2007年

2007年11月 最新鋭ハイブリッドコーターをテクニカムに設置、テスト開始

2006年

2006年7月 平成18年度地域新生コンソーシアム研究開発事業「無機/有機スタック型ナノ太陽電池の開発」に採択
2006年2月 新機能性材料展 nano tech 2006
ヒラノグループによるナノテク素材向成膜装置の紹介

2005年

2005年9月 国際光触媒展2005
湿式による光触媒薄膜のコーティング装置をパネル展示。
2005年7月 ∀コータを開発
上塗り式の精密塗工装置を開発。テクニカムにてテストの受付を開始。
2005年4月 第15回 ファインテック・ジャパン
フラットパネル ディスプレイ 研究開発・製造技術展

∀コータを展示
2005年4月 平成17年度地域新産業創造技術開発費補助事業「毛細管塗布方式による白色面発光シート製造装置の開発」に採択

2004年

2004年12月 テスト機 更新 M200L
更なる多彩なテストに対応すべくテスト装置を一新。
コーティング方式もあらたに追加。
2004年8月 平成16年度 地域新規産業創造技術開発費補助事業
「毛細管塗布方式による白色面発光シート製造装置の開発」

フレキシブルな高分子有機EL白色面発光シートの製造装置の開発を開始。
2004年8月 平成16年度 中小企業・ベンチャー挑戦支援事業のうち実用化研究開発事業
「二層分離型シリコン系樹脂を用いたハードコート成膜プロセス及び装置の研究開発」

CDやDVD等のエレクトロニクス分野のハードコート膜の成膜プロセスと製造装置の開発を開始。
2004年6月 テスト機 改良・改善: ユニバーサルコータ
500m/minの高速塗工時のライン安定性を改善。
2004年4月 CMM-JAPAN&JSP 2004
「M-200C:連続式キャピラリ-コータ、R&Rコータ、DIVAコータ」を出展。
2004年4月 近畿経済産業局 創造技術研究開発事業
「導電性粉末を使用した塗布液による透明導電性フィルムの低温成膜プロセス及び製品の開発」

導電性粉末を使用した塗布液による透明導電性フィルムの低温成膜プロセス及び製品の研究開発を完了。
2004年3月 両面間欠連続塗工装置を開発
リチウムイオン電池等を対象としたダイ方式による間欠連続塗工装置を開発し受注活動を開始。

2003年

2003年12月 テスト機 改良・改善: M200L
薄膜塗工ユニットを新たに作成、ドライヤを2室から3室へ増設。
2003年11月 テスト機 改良・改善: ハイブリットコータ
薄膜塗工ユニットを作成、UV装置を追加し薄膜塗工へ対応。
2003年9月 テスト機 改良・改善: キャピラリーコータ(Capillary Coater)
駆動部のリニアモータ化による速度と安定性を向上、また液槽方式の追加等により塗工液の適用範囲を拡大。
2003年7月 第13回 フラットパネル ディスプレイ製造技術展
Capillary Coater」を出展
2003年7月 中小企業総合事業団 課題対応新技術研究開発事業
「耐環境膜の薄膜コーティング技術に関する研究開発」

産官学の連携による光触媒、UVカットフィルム等の耐環境膜の薄膜成膜装置の委託開発を実施。
2003年6月 近畿経済産業局 創造技術研究開発事業
「導電性粉末を使用した塗布液による透明導電性フィルムの低温成膜プロセス及び製品の開発」

導電性粉末を使用した塗布液による透明導電性フィルムの低温成膜プロセス及び製品の研究開発を産官学の連携で開始。
2003年3月 有機EL用ITO膜の新規成膜プロセスを開発。
2002年度に引き続き有機EL用ITO膜の成膜プロセスを開発。
2003年2月 テスト機 改善・改良:M-600SF
コンマロール用箱型液槽を製作。
2003年1月末 中小企業総合事業団  課題対応新技術研究開発事業
「有機EL及び透明導電性膜の新規成膜プロセスに関する研究開発」

産官学の連携による有機ELディスプレイのカラー化への対応と湿式法によるITO膜の成膜装置化技術の確立に関する委託研究開発を完了。
2003年1月末 中小企業総合事業団  課題対応新技術研究調査事業
「耐環境膜の薄膜コーティング技術に関する研究調査」

産官学の連携による光触媒膜や電磁波シールド膜を大気圧下の湿式薄膜コーティングで成膜する技術についての委託研究調査を完了。
2003年1月 テスト機 改善・改良: M-600SF
高性能リチウム二次電池用間欠ナノテクスロットダイを製作。

2002年

2002年12月 「Capillary Coater」用 耐酸性ノズル作成
強酸性の塗布液に対応するためガラス、セラミックス、SUS316製のノズルを製作。

2002年12月 耐環境膜の薄膜コーティング技術を開発
フィルム、繊維、ガラスを対象とした光触媒、電磁波シールド等の耐環境膜の湿式塗布法・乾燥・焼成・熱処理等の成膜プロセスを開発。
2002年10月 テスト機 改良・追加: ユニバーサルコータ
ドライヤにバキューム・ノズルを追加。
2002年9月 テスト機 改良・追加: ホットメルトコータ
コンマロール用箱型液槽を製作。
2002年7月 中小企業総合事業団  課題対応新技術研究調査事業
「耐環境膜の薄膜コーティング技術に関する研究調査」

産官学の連携による光触媒膜や電磁波シールド膜を大気圧下の湿式薄膜コーティングで成膜する技術についての委託研究調査を開始。
2002年7月 LCD/PDP International 2002
「有機EL用成膜プロセス装置」を出展。
2002年7月 テクニカムテストシステム構築
テストの受付〜テスト実施まで一貫したシステムを構築し、テスト手順の円滑化を図る。
2002年4月 テスト機 改造:連続式キャピラリーコータ(M-200C)
連続式キャピラリーコータ(M-200C) タイプの少容量形ノズルを製作。
2002年3月 有機EL発光層成膜プロセスを開発
「連続式キャピラリーコータ(M-200C)」を用いた高分子有機EL発光層(RGB)の成膜プロセスを開発。
2002年3月 テスト機 改良: ハイブリッドコータ
グラビア塗工用インジェクターを開発。

2001年

2001年11月 テスト機 更新: M-600SF
中厚セラミックスシート成形において精度向上と低速域での走行安定性の要求に従来機(R-SF、M400)では対応できないためテスト機を新規に設計し更新。
2001年10月 OTEMAS−大阪国際繊維機械展
ホットメルトコータ、 シュリンクサーファ を出展。
2001年10月 テスト機 改良:縦型乾燥機
ドライヤにパンチングノズルを追加。
2001年10月 ホットメルトコータ 開発
環境にやさしい無溶剤のホットメルト樹脂専用のホットメルトコータを開発。
2001年9月 中小企業総合事業団 課題対応新技術研究開発事業
「有機EL及び透明導電性膜の新規成膜プロセスに関する研究開発」

産官学連携による有機ELディスプレイの発光層成膜プロセスとその装置化に関する委託研究開発を開始。
2001年8月 減圧乾燥機を開発
「CAP Coater」の付属装置として、塗布後の乾燥ムラ防止対策として開発。
2001年6月 新型サクションロールを開発
高張力下でもテンションカット力を維持できるサクションロールを開発。
2001年6月 テスト機 更新:ハイブリッドコータ
第6回 CMM-JAPANに出展したユニバーサルコータとクリーンに対応したフローティング型ドライヤを接続したものに変更。乾燥能力、コータラインとしての処理速度を向上した。
2001年5月 テスト機 改善・改良: 連続式キャピラリーコータ(M-200C)
駆動系の変更を行い、走行時の安定性を向上。
2001年4月 CMM-JAPAN&JSP 2001」
「リップ、コンマ、ナノテクスロットダイの塗工方法を集約したユニバーサルコータ」と「CAP CoaterU」を出展。
2001年3月 「Capillary Coater 」開発
研究開発用途に対応する為、「CAP Coater」のレジスト量の極少化・装置のコンパクト化を実現した「Capillary Coater」を開発。
2001年1月末 中小企業総合事業団  課題対応新技術研究調査事業
「透明導電性膜の新規成膜プロセスに関する研究調査」

透明導電性膜のITO膜を大面積上に安価で生産性良く形成する成膜プロセスの実用化と事業化の可能性についての委託研究調査の報告書を事業団に提出。

2000年

2000年12月

PDP用ITO膜の新規成膜プロセスの開発
PDP用のITO膜を湿式塗工法を用いて安価で生産性良く形成する最適な成膜プロセスを開発。

2000年10月 LCD/PDP Internationa /PDP International 2
連続式キャピラリーコータ(M-200C)」を出展
Capillary Coater」がアドバンスドディスプレイ 製造部門 優秀賞を受賞。
2000年8月 テスト機 改善・改良: CAP Coater
タクトタイムの短縮及び位置精度の向上のため「Cap Coater」の駆動系・シーケンス及びシーケンスプログラムの変更・測定センサーの追加等を行い対応。
2000年6月 連続式キャピラリーコータ(M-200C)」 開発
連続シートへの各種塗工・熱処理技術と、毛細管現象を利用した高精度薄膜塗工技術を融合した「連続式キャピラリーコータ(M-200C)」を開発。
2000年6月 テスト機 改善・改良:ユニバーサルコータ
シーケンサ・コントローラー等の変更を行い精度、操作性、メンテナンス性、制御性の向上を図る。
2000年5月 中小企業総合事業団 課題対応新技術研究調査事業
「透明導電性膜の新規成膜プロセスに関する研究調査」

透明導電性膜のITO膜を大面積上に安価で生産性良く形成する成膜プロセスの実用化と事業化の可能性についての委託研究調査を産官学による連携で開始
2000年4月 テスト機 更新・改造: 縦型乾燥機
ナノテクスロットダイを更新。
2000年3月 テスト機 改善・改良: ハイブリッドコータ
塗工装置に小径グラビア方式を追加。
2000年1月 フォトマスク成膜装置の製品化
「Cap Coater」をフォトマスク成膜用装置として製品化。

1999年

1999年10月 LCD/PDPインターナショナル 1999
「Cap Coater」 を出展。
1999年9月 テスト機 更新・改造: 縦型乾燥機
縦型乾燥機の含浸装置を製作し、含浸塗工によるテストに対応。
1999年2月 テスト機 更新 縦型乾燥機
二次電池等の両面塗工テストに対応する為、乾燥能力・走行安定性を向上させる為、新規に設計を行い更新。

1998年

1998年12月 「Cap Coater」 開発
毛細管現象を利用した新塗布方式の技術を(独)STEAG社より導入し、新しい薄膜塗布装置「Cap Coater」を開発。
1998年11月 (米)C.C.R社よりナノテクスロットダイ販売契約を締結。
塗工部を負圧状態にする事で塗工ビードを安定させ塗布する技術を導入。
1998年10月 MgOコータ開発
真空蒸着に代わる大気圧中でのPDP用保護膜(MgO)成膜装置として、超音波噴霧方式を用いたMgOコータを開発。
1998年10月 テスト機 更新・改造: 単板コータ
塗工開始、終端部の微調整制御を可能にし、駆動系も塗工ムラのでないものに変更。
1998年6月 テスト機 更新・改造: 縦型乾燥機
第5回 CMM-JAPANに出展した両面同時間欠塗工ユニットの組込み。
1998年4月 「CMM-JAPAN 1998」
両面同時間欠塗工機を出展。

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