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有機EL成膜プロセス

有機EL層の塗布・乾燥・熱処理・環境プロセス

ヒラノテクシードでは、ナノオーダの成膜を実現する毛細管現象を利用した新規塗布技術と、長年培った薄膜乾燥・熱処理技術を活用し、発光特性と電気特性に優れた高分子型有機ELの発光層及びITO膜を形成するための新規成膜プロセスを開発しました。

本装置は、基盤の搬送・塗布・乾燥・熱処理工程をグローブボックス内に設置し、膜質に影響を及ぼす湿度・酸素濃度等の環境条件を考慮するとともに、各種の高機能膜を高精度で、安価に、生産性よく形成、しかも設備コストは真空装置の1/3以下、また塗布の使用効率が95%以上というコストパフォーマンスに優れた成膜プロセスです。

有機EL層の塗布・乾燥・熱処理・環境プロセス

Capillary Coater Range 有機EL対応タイプ

テクニカム・テスト装置

基板 ガラス基板
サイズ:150×200mm
厚み:0.4〜1.1mm
塗工量 10〜200nm±2%(Dry)
塗液量 Min.50ml
ホットプレート 50〜200℃±1℃
環境 酸素濃度1%以下湿度1%以下
機械速度 0.5〜10.0m/min

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TEL:(0745)57-2265 / FAX:(0745) 57-2260

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